Наша R&D Деятельность

Объединяя академические знания в разработке и исследованиях в области синтетического алмаза,
собственный инвестиционный капитал и опыт в венчурном предпринимательстве,
мы создаем основу для развития технологий будущего

Синтетические алмазы, полученные методом CVD

(химическое осаждение из газовой фазы)

Метод химического осаждения из газовой фазы позволяет получать материал с заданными свойствами.
Изменяя режимы синтеза и условия роста, мы полностью контролируем процесс получения алмаза и получаем материал с заданными свойствами, необходимыми для того или иного продукта

Сверхчистые
монокристаллические
алмазы

Легированные алмазные
структуры (B,N,Ge, P, rare редкоземельные металлы)

NV, SiV центры
и источники одиночных
фотонов

Изотопически
обогащенные алмазные структуры

Мозаичный рост
с целью получения монокристаллических алмазных пластин
размером до 20 мм

Высокая производительность
ростовые CVD-машины

Разработка и строительство одиночных
и поликристаллических алмазных систем.

Вакуумная ростовая установка нового поколения, позволяющая гибко корректировать параметры синтеза с целью управления и модификации свойств. CVD-алмаза размером до 8 дюймов.

Дополнительное оборудование и сопутствующие технологии для промышленного контролируемого легирования алмазов.

Применяемые лазерные
технологии

Разработка пико- и фемтосекундного лазера и технологий лазерного микроструктурирования алмаза. Проект направлен на создание лазеров пико- и фемтосекундного диапазона с высокой энергией в импульсе (10-200 мкДж) и высокой частотой повторения ( 1- > 10 МГц) для эффективной обработки алмазных компонентов. Разработаны подходы по микропрофилированию алмаза с созданием одномерных, двумерных и трехмерных структур, на базе которых возможно создание целого ряда продуктов высокой глубины передела: от дифракционных оптических элементов до фотонных кристаллов.

Разработка эксимерного лазера для литографических машин. Разработан и испытан прототип литографического эксимерного лазера KrF (193 нм) для производства интегральных схем.

Алмазные пластины

Разработка пакета технологий
для скоростной промышленной обработки.

Микроструктурирование поверхности при помощи метода реплики и лазерного профилирования.

Микросверление и микрорезка

Микроструктурирование поверхности при помощи метода реплики и лазерного профилирования

Методы и алгоритмы создания 1D, 2D, 3D микроструктур с использованием метода лазерной графитизации

Разработка сопутствующего
контрольно-измерительного оборудования

Стенд для измерения теплопроводности

Установка по измерению толщины и скорости осаждения алмазных пленок в процессе синтеза

Стенд для измерения коэффициента оптического поглощения алмазных пластин калориметрическим методом